津田国臣. 光掩模检查方法的动向[J]. 机器人, 1980, 2(1): 63-72.
引用本文: 津田国臣. 光掩模检查方法的动向[J]. 机器人, 1980, 2(1): 63-72.

光掩模检查方法的动向

  • 摘要: 本文主要说明用于半导体器件制造中的光掩模版的检查方法.因为被制造的光掩模的检查包括外观缺陷检查、尺寸测量、比较测量几个方面,所以根据各自的方法、设备及存在的问题加以归纳.特别是就最近几年在外观缺陷检查研究装置化、自动化问题方面,介绍一下各公司的研究、试制具体实例中存在的问题.

     

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